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產品品名 | 哈西奈德乳膏(福元) |
主要原料 | 主要成分為哈西奈德(氯氟舒松、哈西縮松)。化學名稱:16α,17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3,20-二酮。 |
主要作用 | 接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。 |
產品規格 | 10mg:10g |
用法用量 | 外涂患處每日早晚各一次。 |
生產企業 | 福元藥業有限公司 |